光催化反應的活性、產物選擇性以及催化劑穩定性都和體系溫度密切相關，光源輻照本身會持續放熱，容易造成反應體系溫升漂移，合理管控溫度，才能減少實驗誤差，保證數據重復性。
 

　　優先區分光源熱效應與反應放熱。氙燈、汞燈等光源輻射中含有大量紅外熱，長時間照射會持續加熱反應液，是升溫的主要來源。實驗前提前開啟光源預熱穩定，不要直接用剛點亮的光源開展測試，光源功率穩定后發熱量才趨于恒定。條件允許時，在光源與反應容器之間加裝濾光片，濾除紅外熱輻射，從源頭降低熱干擾，適合需要恒溫、只考察光效應的實驗。
 

　　水冷循環系統是控溫核心部件。使用前檢查循環水路，管路不能彎折堵塞，冷卻水液位充足，循環泵運轉正常。根據目標溫度設定循環機參數，提前預冷 / 預熱，讓夾套、冷阱溫度先達到設定值再裝樣反應。定期更換循環介質，清理管路水垢、藻類，換熱效率下降會出現控溫滯后、溫度飄高。水路接頭留意是否滲漏，漏水不僅影響控溫，還可能損壞光源與電路。
 

　　反應容器與樣品體系做好適配。液面高度、樣品體積不宜隨意改動，液體量變化會改變換熱面積。攪拌速度保持一致，攪拌能夠促進體系熱量均勻，避免局部過熱。若是氣相光催化體系，要保證反應腔換熱面接觸良好，腔體隔熱棉如有破損及時修補，減少環境溫度帶來的擾動。
 

　　實驗過程做好溫度監測，不能只依靠循環機讀數，建議在反應體系內插入測溫探頭直接讀取樣品溫度。循環機顯示溫度不等于樣品真實溫度，光源持續輻照下二者會存在溫差。如果溫升超出允許范圍，可以適當降低光源功率、縮短光照時長或者增加風冷輔助散熱；嚴禁依靠敞開體系散熱，防止反應物揮發、濃度變化。
 

　　環境條件也需要管控。設備放置位置避開空調直吹、陽光直射以及其他發熱儀器。環境溫度波動大時，控溫難度明顯上升。多組平行實驗要保持環境、光源時長、水冷參數統一。
 

　　實驗結束后，先關閉光源，繼續保持水循環一段時間，等腔體、光源降溫后再關停循環機，防止余熱積聚加速光源老化。每次實驗記錄溫度曲線，出現溫度波動異常時，依次排查濾光片、水冷機、管路密封性和探頭是否失效。